SK Hynix представляет первую в отрасли памяти систему экспонирования в EUV с высокой числовой апертурой.

03.09.2025 Южнокорейский гигант в области производства памяти SK Hynix 3-го числа объявил о том, что он представил первую в отрасли производства памяти машину для массового производства с высокой числовой апертурой для экспонирования в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (High NA EUV) на своем заводе M16 в Ичхоне, Южная Корея, и провел церемонию в честь прибытия оборудования.Компания SK Hynix заявила, что её высокочастотная система экспонирования в экстремальном ультрафиолетовом (EUV) диапазоне имеет более высокую числовую апертуру, чем существующие стандартные EUV-системы. Поскольку числовая апертура определяет способность линзы фокусировать свет, большая числовая апертура обеспечивает более высокую точность создания схемных рисунков. Это значительно повышает разрешение и оптимизирует процесс создания мельчайших схемных рисунков, играя ключевую роль в уменьшении ширины линий и повышении уровня интеграции.На торжественной церемонии ввода оборудования в эксплуатацию присутствовали генеральный директор ASML Korea Ким Бён Чан, директор и главный технический директор (CTO) SK Hynix Future Technology Institute Ча Сон Ён, директор по производственным технологиям SK Hynix Ли Бён Ки и другие руководители, чтобы отпраздновать внедрение оборудования для производства DRAM следующего поколения.Компания SK Hynix отметила, что конкуренция на мировом рынке полупроводников становится всё более жёсткой, что позволило создать прочную основу для быстрой разработки и поставки высокотехнологичной продукции, отвечающей потребностям клиентов. Тесное сотрудничество с партнёрами повышает надёжность и стабильность глобальной цепочки поставок полупроводников. В настоящее время оптимизация микропроцессов имеет решающее значение для производителей полупроводников для повышения производительности продукции и эффективности производства. Чем точнее схема, тем больше кристаллов можно изготовить на одной пластине, что существенно повышает энергоэффективность и производительность.С тех пор как в 2021 году компания SK Hynix впервые представила технологию EUV в четвертом поколении 10 нм (1a) DRAM, она продолжает расширять применение EUV в области передового производства DRAM. Однако, чтобы удовлетворить будущий спрос рынка полупроводников на сверхтонкость и высокую интеграцию, необходимо внедрить технологическое оборудование следующего поколения, превосходящее существующее EUV. Поэтому на этот раз представленное оборудование — TWINSCAN EXE:5200B, выпущенное голландской компанией ASML. Это первое серийно выпускаемое оборудование EUV с высокой числовой апертурой (High-NA). По сравнению с существующим оборудованием EUV (NA 0,33) оптические характеристики (NA 0,55) улучшены на 40%, и оно может производить схемы с точностью до 1,7 раза, а интеграция увеличена в 2,9 раза.