Выйти на платы: российский литограф ускорит производство микросхем в 3 тыс. раз.

05.08.2026 Установка будет способна обработать кремниевую пластину всего за пять минут вместо двух недель. Российский стартап разработал проект многолучевого электронного литографа для производства современных микросхем. Для него уже создана и испытана ключевая технология — мультикатод, позволяющий формировать сразу множество электронных лучей. Благодаря этому установка сможет экспонировать кремниевую пластину всего за 5–7 минут — примерно в 3 тыс. раз быстрее традиционных однолучевых электронных литографов. Разработчики рассчитывают, что новое решение позволит конкурировать с зарубежными аналогами на российском рынке и укрепить позиции страны в сфере микроэлектроники. В то же время эксперты отмечают, что проект пока находится на ранней стадии развития, поэтому до появления полноценных работающих прототипов может пройти еще немало времени. Проект многолучевого электронного литографа Российская команда при поддержке НТИ создала проект многолучевого электронного литографа, который, по расчетам разработчиков, способен сократить время экспонирования кремниевой пластины — нанесения рисунка на ее поверхность — с полутора-двух недель до нескольких минут. В основе установки лежит мультикатод — единый источник, формирующий сразу множество электронных лучей вместо одного, как в традиционных электронных литографах. Пока речь идет не о готовой машине, а о завершенном этапе научно-исследовательских работ. Сам литограф предстоит создать в рамках следующего этапа — опытно-конструкторской разработки. При этом ключевой элемент системы — мультикатод — уже изготовлен и прошел практические испытания. Впервые проект литографа был представлен на форуме «Сильные идеи для нового времени». — Мы разработали сквозную технологию создания мультикатода и подтвердили ее работоспособность на практике. Нам удалось получить массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра — это один из лучших результатов в мире. Именно этот элемент позволяет генерировать множество электронных лучей одновременно и многократно ускорить процесс литографии, — рассказал «Известиям» главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов.