По мнению UBS, Китай, возможно, не сможет сравниться с ASML по своим возможностям в следующем десятилетии.

02.09.2026                                                       Основные выводы от Bloomberg AI ✅ Аналитики UBS Group AG прогнозируют, что Китай вряд ли сможет разработать жизнеспособную альтернативу технологии экстремального ультрафиолетового излучения компании ASML Holding NV в течение следующего десятилетия. ✅ По мнению аналитиков, прогресс Китая в развитии отечественной микросхемной промышленности сдерживается ограничениями на экспорт передового оборудования для производства микросхем. ✅ Аналитики UBS ожидают, что Китай разработает возможности для крупномасштабного производства установок для глубокой ультрафиолетовой литографии с иммерсионным облучением в течение двух-пяти лет.   Аналитики UBS Group AG прогнозируют, что Китай вряд ли сможет достаточно быстро нарастить свои мощности по производству полупроводников, чтобы в течение следующего десятилетия разработать жизнеспособную альтернативу передовой технологии экстремального ультрафиолетового излучения компании ASML Holding NV. «Похоже, они находятся на том же этапе развития, что и ASML в 2004 году», — написали в своей записке аналитики UBS во главе с Франсуа-Ксавье Бувинье . Пекин вкладывает государственный капитал в развитие отечественной микросхемной промышленности с целью достижения самодостаточности. Однако этому прогрессу препятствуют введенные Вашингтоном ограничения на экспорт передового оборудования для производства микросхем. Компания ASML, базирующаяся в Велдховене, Нидерланды, является единственным производителем сложных литографических машин, имеющих решающее значение для производства современных полупроводников, в том числе для Nvidia Corp. Гиганту в сфере производства оборудования для микросхем запрещено продавать свои установки для экстремальной ультрафиолетовой литографии в Китай, который является одним из его основных рынков сбыта. Аналитики UBS отметили, что патентная активность, особенно в отношении источников света и лазерных подсистем, свидетельствует о зрелости, сопоставимой с уровнем ASML за 15 лет до начала массового производства оборудования для EUV-литографии. Китайское производство чипов на 22 года отстало от технологий нидерландской ASML. Свои EUV-литографы КНР выпустит лет через 10, пока Тайвань вовсю использует такую аппаратуру на протяжении как минимум последних пяти лет. Даже DUV-литографы, предшественники EUV, Китай научится массово выпускать как минимум через два года, а то и через все пять лет.